去年，虽然全球半导体行业复苏，但全球光刻机产业受制于90nm制程工艺的瓶颈，全球半导体设备销售额只有223亿美元，其中光刻机销售额只有60亿美元，不到30%，专家预测今年全球半导体设备的销售额有可能超过300亿美元。
一旦BSEC浸没式光刻机推向市场，全球半导体设备销售额将会出现爆发式增长。
“魏总、李副总，我们一边申请公司发明专利，一边组织员工加班加点生产，我代表PGCA半导体公司预定一套65nm制程工艺的半导体生产线，其中20台90nm制程工艺的光刻机交给GCA生产。”
PGCA半导体公司是由PENG（占60%）和GCA（占40%）投资成立的中美合资公司，PENG和GCA都是上市公司，法人兼董事长孙健也要兼顾GCA投资者的利益。
“好的，董事长！”
BSEC和GCA的身后老板都是孙董事长，两家既是竞争对手也是合作伙伴。
“魏总，一旦通过专家组鉴定后，我们要在第一时间电话告知汤普森先生，将134nm波长光源的激光器和浸没式光刻系统专利技术卖给GCA。”
1993年8月，GCA同BSEC签订了磁悬浮式双工作台系统专利和ArF准分子激光器专利互换协定，BSEC如今拥有的134nm波长光源的激光器是在ArF准分子激光器专利的基础上研发的，按照双方签订的专利技术转让协定，专利技术也属于GCA，但浸没式光刻系统专利技术属于BSEC。就像GCA研制成功多项磁悬浮式双工作台系统专利技术也属于BSEC一样。
(本章完)